第1304章 提出概念

面对一定会到来的各种专利围剿和国际法律纠纷，张儒金丝很淡定的。

他们之前都谈好了，28nm的芯片，是明面上用来吸引火力的。

各种火力放马过来吧！

梁梦嵩半开玩笑地问张焕：“怕不怕？工厂还没建起来，就已经被全球代工龙头盯上了。”

张焕嗤笑一声，眼神锐利如刀：

“怕？我要是怕，就不会踏进这个行业！

“从决定做芯片的那天起，我就做好了应对这一切的准备。

“台积电的官司，不过是迟早要闯的一关罢了！”

他心中无比清楚：就算没有台积电，十年后，华国芯片也必然会被大洋彼岸的政府列入各种限制清单。

伸头一刀，缩头也是一刀。

唯一的生路，就是利用这段宝贵的时间窗口，疯狂研发，积累专利，提升技术，打造出一条尽可能自主可控的供应链。

他要做的，就是与时间赛跑。

至于台积电可能发起的专利诉讼，只要华国芯片初期的产品不销往莓国等有严格专利保护的市场，就有周旋的空间。

在国内打官司，变数更多。

当然，最根本的解决之道，还是研发出属于自己的、不侵犯他人专利的独特工艺技术，

或者积累足够多的专利进行交叉授权，让对方投鼠忌器。

IBM之所以愿意和中芯国际合作授权技术，是因为它自身已退出芯片制造领域，乐得用技术换钱。

而台积电是靠技术吃饭的，绝不会轻易将核心专利授权给潜在的竞争对手。

这条路，从一开始就注定充满荆棘和斗争。

张焕能做的，就是在制裁的大棒彻底落下前，让华国芯片尽可能强大起来，像未来的花为一样，即便被层层封锁，也能顽强地活下去，并寻求突破。

自研，才是唯一的王道。

……

当天晚上，张焕设宴招待了随二老先期抵达沪市的一部分核心骨干成员。

席间气氛热烈，大家对华国芯片的未来充满期待，也深知前路挑战重重。

第二天上午八点整，车队载着张焕、张儒金、梁梦嵩以及管理团队，驶向开发区。

奠基仪式规格极高，沪市市委市政府的主要领导都将亲临现场。

在打头的轿车里，三人聊起了具体的技术路线规划。

张儒金首先提出建议：

“我认为，初期比较稳妥的策略是，尝试从IBM那里通过技术转让或合作的方式，获得40纳米和32纳米工艺的授权。

“然后集中研发力量，先吃透32纳米工艺，力争尽快实现40纳米的量产。

“这样既能积累起一批客户，带来现金流，也能缓解公司初期的运营压力，同时锻炼我们的工艺团队。”

这是自营。

大体方向，和张焕之前在流星科技，与刘雯雯导师的团队聊得差不多。

就是先积累一点点技术和经验，先确保一定的盈利能力，不能干巴巴地砸钱。

明面上的目标是28nm，不代表第一个产品就得是28nm。

技术和经验都是要迭代和积累的。

张焕点点头，转而问梁梦嵩：“梁老，您怎么看？”

梁梦嵩笑着表示认同：“我和老张的想法基本一致。饭要一口一口吃，路要一步一步走。”

张焕好奇道：“我们之前定下的，28nm的目标，大概多久实现？”

这个团队，比刘雯雯导师的团队更有实践经验，应该能给出更加靠谱的答案。

梁梦嵩：“28纳米的技术难度相比32纳米是质的飞跃。我们能在最短时间内突破并稳定32纳米工艺，就已经是巨大的成功了。

“至于28纳米，目前看来只有台积电在研发上最为领先，听说他们今年有望实现大规模量产。

“我们……暂时想都不敢想，你让我给个预估的时间，我是真给不了。”

这就是老科研的答案——没有答案。

张儒金也补充道：“设备、材料、工艺配方、人才，每一项都是极高的门槛。

“具体要多久，还得看你能弄来什么设备。

“如果你什么设备都提供不了，什么技术和设备，都得自研，那么十年左右吧？”

他也不是很确定。

张焕理解地点点头，心里头更加明白郁恬昕的重要性。

他似乎在努力回忆着什么，沉吟片刻后，用一种不太确定的、探讨的语气说道：

“我之前因为好奇，也看过一些半导体技术方面的资料。

“有一个问题一直没太想明白……

“我记得光刻机的分辨率是有物理极限的，特别是在DUV光源下。

“为什么业界很少采用多重曝光（Multi-Patterning）技术呢？

“我的意思是，通过多次曝光、刻蚀的循环，理论上不是可以突破单次曝光的分辨率极限，刻出更精细的电路吗？”

多重曝光，顾名思义，就是用多个掩膜版，在同一片晶圆上进行多次光刻和刻蚀操作，

将复杂的图形分解成多个较简单的图形叠加出来，从而实现更高精度的图案。

这相当于用多张底片拼合成一张超高精度的照片。

张焕提起这个，目标直指14nm芯片。

梁梦嵩笑着解释道：

“张董您确实了解得很深入。行业内不是没有讨论过，甚至有过双重曝光的尝试。

“但为什么没有普及？

“主要是因为良品率和成本问题。

“每一次额外的曝光和刻蚀步骤，都会引入新的误差风险，导致最终的整体良率呈指数级下降。”

他随手算了一下：

“假设单次曝光的良率能达到90%，这已经很高了。如果经过四次曝光，最终芯片的良率就是0.9的四次方，只剩下大概65%左右。

“这么低的良率，意味着成本会高到天际，生产出来的芯片得卖多贵？客户怎么可能接受？

“所以，与其费劲搞多次曝光，不如直接购买更高分辨率的新一代光刻机更划算。”

张焕若有所思地点点头，仿佛只是随口一提：

“哦，原来是这样……成本确实是大问题。

“不过我瞎想啊，是不是可以换一种思路？

“比如，先用一个掩膜板刻出一批间隔较宽的‘鳍片’Fin结构，然后沉积一层间隔物Spacer材料，再把原先的‘鳍片’核心刻蚀掉，最后剩下的那些间隔物本身，不就形成了一排间距只有原来一半的、更精细的结构了吗？这算不算只用了两次曝光和刻蚀，就得到了翻倍的精密度？”

他顿了顿，马上又自嘲地摆摆手：

“哈哈，我就是纯外行瞎琢磨，二老千万别笑话我，班门弄斧了。”


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