第1294章 巨大代差
回到了沪市酒店套房的张焕，坐在窗边的沙发上，手里看着今天梳理的文件。
根据两位前辈提供的信息，张焕发现，芯片的成本方面，比他想的更高。
华国内，开发成本确实很低。
但是这里面有大量设备，都得从国外进口。
华国的人力资源成本很低，华国国产的设备价格很低，可是如果从欧美进口，不管什么东西，都会变成天价。
偏偏他们能自产的东西太少。
除了资金，从公司注册、团队搭建、厂址选定，到最关键、最复杂的设备采购谈判，他都必须身体力行地参与决策，无法假手他人。
仅仅是建设一座月产3-5万片的12英寸（300mm）晶圆厂，初步估算的总体造价就不会低于25亿美元。
这还只是建厂和购买首批设备的费用，若算上后续持续投入的昂贵原材料高纯度硅片、特种气体、光刻胶等，
庞大的研发开支以及维持工厂运转的天价水电和维护成本，保底投入不会少于30亿美元！
“不对，维护成本这方面，只要有了足够的维护技术和自我迭代能力，在华国的话，估计只有十分之一……”
这算是少有的好消息了。
台积电在2016年于南京设立的16nm晶圆厂，总投资额就是30亿美元。
当然，台积电当时采购的设备中包含更先进的机台，且其作为行业老手，建厂效率和成本控制远非华国芯片这个新手可比。
华国芯片从零开始，学习曲线陡峭，每一步都可能产生额外的“学费”，甚至在国际设备采购中，因为缺乏经验和谈判筹码，被供应商“宰一刀”几乎是必然的。
就算让郁恬昕在开曼群岛注册公司，用投资建场的名义，偷偷走私设备。
这也只是节省成本的盘外招。
这一招还不一定行得通呢！
万一用郁恬昕走私的渠道来计算，结果没成功怎么办？这不是白瞎了力气和脑力吗？
不能让没有实现的可能，作为成本计算的基础，必须用常规渠道的手段来计算成本。
一切……等郁恬昕那边走私成功了再说。
那么回到眼前的直接成本。
建设成本是绝对的大头，主要包括：
天价设备购置，这是最烧钱的部分。高标准厂房建设：需要恒温恒湿、超净环境、防微震、特殊电力供应双回路、电压稳定，地价和建安成本不菲。
人员培训与技术研发，招募的工程师和技术员需要送到国外或请专家来进行漫长且昂贵的培训。研发更先进制程的投入更是无底洞。
良率爬坡的损耗，生产线调试初期，良率可能极低，生产出来的大量废片等同于烧钱。
其中，制造设备清单长得令人咋舌，涵盖了芯片制造的数百道工序。
氧化/LPCVD/PECVD/ALD设备，用于生长二氧化硅层、沉积各种薄膜。
光刻机+涂胶/显影机，是核心中的核心，将电路图形转移到硅片上。
电子束光刻机，用于掩模版制作和先进研发。干法/湿法刻蚀机，精确去除特定材料。离子注入机，改变硅的电特性。
物理气相沉积/化学机械抛光设备，制造金属互联层并使其平坦化。计量与检测设备，确保每一步工艺的精确性。清洗设备，每一步工艺后都需要彻底清洗晶圆。
如果不是两位老人在计算成本的时候，一一给张焕解说列举，张焕也不会那么清楚。
之前是大方向制定计划，现在是真的深入踏足其中了。
此时是2012年，国内设备商如七星华创、北微、中微、中电科等才刚刚起步，产品大多只能满足部分中低端需求。
想购买先进、可靠的生产设备，只能将目光投向海外。
在所有设备中，价值最昂贵、技术壁垒最高的三大件是：光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备，这三类设备通常占据晶圆厂设备总投资的 60%-70%！
而这个市场，几乎被少数几家巨头垄断。
光刻机，荷兰阿斯麦一家独大，尤其在高端沉浸式光刻机市场占据超过80%的份额。小日子的尼康、佳能已显颓势。
刻蚀机，莓国的泛林集团和应用材料是绝对龙头。
薄膜沉积设备，莓国应用材料是全能王者，尤其在PVD和CVD领域优势明显。
想买先进设备，就绕不开这三座大山，其次还可以考虑小日子的东京电子、日立高新等。
其中，光刻机是国人最为熟悉的“卡脖子”装备。
未来很多人在讨论芯片产业的时候，都喜欢把光刻机丢出来挂在嘴上，这东西真的很有代表性，但真不是唯一。
它只是代表。
它的作用简单理解，就是如同一个极其精密的投影仪，将设计好的、极其复杂的电路图形，按照比例缩小后，“雕刻”到涂有感光胶的硅片上。
芯片结构越复杂，需要的“雕刻”层数就越多，可达数十层，对光刻机的精度和稳定性要求就越高。
阿斯麦有一个非常奇特且精明的商业模式：客户投资。
只有投资了阿斯麦的公司，才能获得优先购买其最新、最先进光刻机的权利。
英特尔、三薪、台积电、海力士都是阿斯麦的股东，形成了一个庞大的利益共同体。
是的，这叫利益同盟，相当于资本党派。
抱歉，这里面的股东名单里，没有华国企业。也就是说，华国进不去别人的圈子。
所以，从一开始，华国芯片要面对的就不只是一家企业，而是几乎整个西方半导体设备联盟的壁垒。
最先进的极紫外光刻机，被誉为“现代工业皇冠上的明珠”，内含超过10万个精密零件，需要全球30多个国家、5000多家顶级供应商协作才能造出来，一台售价超过1亿欧元，且对华严格禁运。
毕竟华国在清末之前的几千年，一直都是世界霸主，从丝绸之路开始，就压得全球喘不过气来。
他们骨子里带着对华国的恐惧，就如同如果今天的世界霸主老美，未来某一天崩盘了，跌倒了霸主之外。
世界上所有国家，都会防着他，会防止这个霸主卷土重来，再次称霸。
但好在，第一代EUV光刻机要等到2016年才能正式商用。
在2012年这个节点，张焕能买到的最先进设备是ArF Immersion DUV193nm沉浸式深紫外光刻机。
DUV光刻机利用光的折射原理，理论极限在25-28nm左右。
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